半導體生產(chǎn)車(chē)間空氣凈化解決方案_高精密儀器車(chē)間空氣過(guò)濾器選擇

通過(guò)用于高級半導體制造的完整解決方案來(lái)提高工藝良率。

在半導體生產(chǎn)車(chē)間中，微污染會(huì )帶來(lái)巨大的問(wèn)題。捷霖凈化提供了廣泛的解決方案-顆粒預過(guò)濾器，HEPA和ULPA過(guò)濾器以及AMC控制解決方案-可以將無(wú)塵室中的顆粒物和分子濃度降低到顆粒物的ISO 1級水平和AMC的亞ppb水平。

AMC過(guò)濾器和控制比無(wú)塵室過(guò)濾更重要

空氣傳播的分子污染（AMC）對小尺寸半導體制造提出了特殊挑戰。酸，堿，有機物，耐火材料和摻雜劑的不良化學(xué)反應會(huì )影響晶片表面和工藝設備的光學(xué)器件，從而在芯片生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生缺陷，并降低設備和工具的效率。

在關(guān)鍵的潔凈室制造過(guò)程中，AMC越來(lái)越重要。隨著(zhù)規格要求的提高和設備尺寸的縮小，過(guò)程控制面臨巨大的壓力。晶圓可以在工廠(chǎng)內呆上一個(gè)月的時(shí)間，在交付最終產(chǎn)品之前要經(jīng)過(guò)數百個(gè)過(guò)程。該工藝鏈中任何微小的污染影響都可能對晶圓廠(chǎng)的整體成品率造成嚴重影響。

另一個(gè)挑戰在于更大尺寸的晶圓的普遍化，這增加了單個(gè)晶圓的成本，并增加了在工具級別對納米顆粒和AMC保護的需求。此外，EUV和多圖案DUV光刻中使用的無(wú)缺陷掩模的成本不斷上漲，這給設施以及小型環(huán)境（如檢查設備和掩模庫存機）的污染控制系統帶來(lái)了壓力。

保護您的工藝設備和晶圓免受納米顆粒和空氣中的分子污染物的侵害

捷霖凈化解決方案在半導體制造環(huán)境中提供了經(jīng)過(guò)現場(chǎng)和實(shí)驗室驗證的保護，包括光刻，蝕刻，擴散，金屬化，薄膜，離子注入，檢查工具以及標線(xiàn)片或晶圓存儲區。

工藝工具空氣濾清器

潔凈室空氣過(guò)濾器

掃描儀預過(guò)濾系統

設施系統的節能高效排氣解決方案

廣州捷霖凈化的顆粒物預過(guò)濾器系列可確保在補充空氣處理機組中使用最低的能量，同時(shí)防止HEPA過(guò)濾器堵塞并且不釋放硼。經(jīng)過(guò)多年的膠粘劑和介質(zhì)化學(xué)性能的發(fā)展，捷霖凈化的HEPA和ULPA過(guò)濾器旨在釋放出盡可能少的有機污染物（所謂的低放氣）。用于晶圓切割的排氣系統以及用于通用排氣備用系統的氣體洗滌器可以保護環(huán)境免受工藝污染。

無(wú)硼合成預濾器

低能量預過(guò)濾器

低放氣的HEPA和ULPA過(guò)濾器

灰塵收集器和氣體洗滌器，可產(chǎn)生更清潔的廢氣